创新工艺解决方案
以客户为中心进行创新,为半导体行业的湿法蚀刻和清洗应用提供领先的制造设备
创新工艺解决方案
以客户为中心进行创新,为半导体行业的湿法蚀刻和清洗应用提供领先的制造设备
03 为什么选择耐晶科技
耐晶科技是您的合作伙伴,为您提供…
… 要求苛刻的湿蚀刻和清洁应用
工艺性能
我们的产品为湿法蚀刻和清洗应用提供业界领先的均匀性。 与传统的批量制程不同,我们确保每个晶片都得到相同的处理,以达到最大制程性能。 Process media的高效使用,是单晶片加工的主要优势之一,并大大降低了设备成本。
创新工艺解决方案
我们坚信,工艺不一定要像过去那样做。 我们与客户一起努力,通过寻找新的创新解决方案来更有效地解决问题,从而塑造行业形象。
以客户为中心
以客户为中心对我们来说至关重要。 只有了解客户及其需求,我们才能提供创新。
04 加入我们
加入我们的团队
我们聘用优秀的员工,并对他们进行栽培!