创新工艺解决方案

以客户为中心进行创新,为半导体行业的湿法蚀刻和洁净应用提供领先的制造设备

创新工艺解决方案

以客户为中心进行创新,为半导体行业的湿法蚀刻和洁净应用提供领先的制造设备

01 关于NexGen

NexGen 为芯片制造商提供表面处理解决方案

我们为半导体制造商提供用于单晶片湿法蚀刻和清洁应用的半导体设备

我们专注于单晶片湿法蚀刻和清洁设备,为集成电路制造过程中的专用湿化学应用提供了赋能技术。

我们为客户提供全自动尖端工艺设备可确保提高生产率,保证质量。

在以客户为中心的强大驱动下,我们提供满足客户特定需求的产品,以确保客户的持续成功。 我们的基本柱之一是于客户在半导体行业快速发展的市场中取得成功。

  • 技术:
    提供领先的性能

  • 团队
    不断努力帮助我们的客户

  • 产品中心:
    提供高度灵活的制造解决方案

02 我们的解决方案

全方位湿蚀刻和清洁解决方案

我们的全面解决方案提供最先进的湿法蚀刻和清洁设备,工艺,和技术支持服务

我们为半导体制造商提供生产线前端 (FEOL) 和后端 (BEOL) 的加工解决方案。 与传统的批量加工技术相比,我们的单晶片加工技术具有领先优势,可为加工应用提供无与伦比的加工性能。

我们提供专门的湿蚀刻和清洁解决方案

湿式蚀刻和清洁设备

用于湿法蚀刻和清洁应用的全自动工艺设备,可满足低,中,高生产需求

流体处理系统

散装化学品供应系统和湿化学品混合系统

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工艺应用服务

湿法蚀刻和清洁工艺应用开发和支持服务 这包括研发服务, 试验和小规模铸造服务

计量系统

半自动和全自动基板厚度和表面粗糙度测量系统

工艺应用服务

湿法蚀刻和清洁工艺应用开发和支持服务 这包括研发服务, 试验和小规模铸造服务

流体处理系统

散装化学品供应系统和湿化学品混合系统

湿式蚀刻和清洁设备

用于湿法蚀刻和清洁应用的全自动工艺设备,可满足低,中,高生产需求

计量系统

半自动和全自动基板厚度和表面粗糙度测量系统

03 为什么选择 NexGen

NexGen 是您的合作伙伴,为您提供…

… 要求苛刻的湿蚀刻和清洁应用

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工艺性能

我们的产品为湿蚀刻和清洁应用提供业界领先的均匀性。 与传统的批量制程不同,我们确保每个晶片都得到相同的处理,以达到最大制程性能。 Process media的高效使用,是单晶片加工的主要优势之一,并大大降低了设备成本。

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创新工艺解决方案

我们坚信,工艺不一定要像过去那样做。 我们与客户一起努力,通过寻找新的创新解决方案来更有效地解决问题,从而塑造行业形象。

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以客户为中心

以客户为中心对我们来说至关重要。 只有了解客户及其需求,我们才能提供创新。

04 加入我们

加入我们的团队

我们聘用优秀的员工,并对他们进行栽培!

查看 NexGen 的工作机会

我们所从事的行业正在稳步发展,就像我们的团队一样!

在 NexGen,我们与客户是一个团队, 并且热爱我们的工作! 我们是一个跨学科,跨文化的团队,共同致力于客户的项目。 我们是一家不断发展壮大的公司,实行扁平化管理,并积极促进员工在工作与生活之间取得健康平衡。

05 联系方式

对我们的解决方案感到好奇? 请与我们联系!