NexGen Wafer Systems在SEMICON SEA 2025展会上发布集成计量技术驱动的超精密湿法刻蚀新突破
此次活动为高层讨论、了解最新发展和深入的专业交流提供了一个平台。来自不同公司和研究机构的代表就化学和机械抛光（CMP）以及半导体晶片湿化学处理（WET）的主题分享了他们的知识和经验。
NexGen 为在鲁汶举行的 2025 年 CMP 和 WET 用户会议做出贡献
此次活动为高层讨论、了解最新发展和深入的专业交流提供了一个平台。来自不同公司和研究机构的代表就化学和机械抛光（CMP）以及半导体晶片湿化学处理（WET）的主题分享了他们的知识和经验。
创新领航：NexGen 亮相 2025 SEMICON China 半导体展
此次活动为高层讨论、了解最新发展和深入的专业交流提供了一个平台。来自不同公司和研究机构的代表就化学和机械抛光（CMP）以及半导体晶片湿化学处理（WET）的主题分享了他们的知识和经验。
NexGen 与 Kanematsu PWS 达成合作伙伴关系，共同开拓日本半导体高端制造市场
此次活动为高层讨论、了解最新发展和深入的专业交流提供了一个平台。来自不同公司和研究机构的代表就化学和机械抛光（CMP）以及半导体晶片湿化学处理（WET）的主题分享了他们的知识和经验。
2024 年欧洲半导体展
此次活动为高层讨论、了解最新发展和深入的专业交流提供了一个平台。来自不同公司和研究机构的代表就化学和机械抛光（CMP）以及半导体晶片湿化学处理（WET）的主题分享了他们的知识和经验。
一般信息
此次活动为高层讨论、了解最新发展和深入的专业交流提供了一个平台。来自不同公司和研究机构的代表就化学和机械抛光（CMP）以及半导体晶片湿化学处理（WET）的主题分享了他们的知识和经验。
NexGen Wafer Systems | 耐晶科技 推出SERENO：集成计量的多功能高产能湿法蚀刻与清洗解决方案，支持6英寸、8英寸及12英寸晶圆
此次活动为高层讨论、了解最新发展和深入的专业交流提供了一个平台。来自不同公司和研究机构的代表就化学和机械抛光（CMP）以及半导体晶片湿化学处理（WET）的主题分享了他们的知识和经验。
NexGen 共同主办欧洲 CMP 和 WET 用户组会议
此次活动为高层讨论、了解最新发展和深入的专业交流提供了一个平台。来自不同公司和研究机构的代表就化学和机械抛光（CMP）以及半导体晶片湿化学处理（WET）的主题分享了他们的知识和经验。
